氧化鈷濕法分散研磨機需要加入液體介質中分散應用，氧化鈷+液體介質+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機進行研磨分散，解決團聚問題，更均勻的分散，并進一步細化粒徑，一般分散后粒徑為D90小于1微米，分散效果好，效率高。